供應信息
目前應用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP 鍍鋁膜（VMCPP）。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長了內(nèi)容物的保質(zhì)期，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，鍍鋁膜在復合包裝中的應用十分廣泛，目前主要應用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。
蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。
（1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機，pet金膜包裝，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸鍍法對基材的要求較高，通山pet金膜，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，pet金膜定做，并對紙的定量有一定的限度。
(2)轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國外已將轉(zhuǎn)移法應用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。
鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強的阻隔性，而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線，可以延長內(nèi)容物的保存期和貨架壽命，因此，對于食品、藥品以及其它一些需要延長保存期的產(chǎn)品來說，采用鍍鋁薄膜作為包裝是一種相當不錯的選擇，可以防止由于吸濕、透氧、光線照射等原因而使食品或者內(nèi)容物發(fā)生腐爛、變質(zhì)等現(xiàn)象。此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過率小，能夠長久保持內(nèi)容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，pet金膜生產(chǎn)廠家，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
您好，歡迎蒞臨華福包裝，歡迎咨詢...
